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Sapphire HD4870 TOXIC: raffreddamento a camera di vapore

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A parte le soluzioni con due GPU sulla stessa scheda, la Radeon HD4870 rappresenta la scheda più performante dell’offerta di ATI e grazie a Sapphire arriva sul mercato in una versione con un sistema di raffreddamento per certi aspetti innovativo: si tratta sempre di raffreddamento ad aria, ma ciò che cambia è il modo in cui il calore viene trasferito dalla GPU e dalle memorie al dissipatore.

I dissipatori convenzionali funzionano per semplice contatto tra i chip e la base in metallo dove sono saldate le alette. Questo sistema però pecca molto nella distribuzione del calore nel dissipatore: esso sarà più concentrato nelle zone interessate dal contatto con i chip, limitando praticamente l’efficienza del corpo dissipante.

Il sistema che Sapphire chiama TOXIC è basato su un dissipatore a camera di vapore, con il quale si prefigge di massimizzare la resa del sistema di raffreddamento. Vediamo in dettaglio come funziona.

Il funzionamento della camera di vapore è molto semplice: la base del dissipatore non è di metallo pieno ma presenta una cavità e un rivestimento di materiale poroso, ambiente ideale per l’evaporazione e la condensa di un liquido con particolari proprietà.

Le evoluzioni di questo liquido portano ad una distribuzione uniforme del calore nella camera di vapore, facendo lavorare al meglio le alette del dissipatore. Vi rimando a una comparativa effettuata da Hardware Upgrade sulla vecchia Radeon HD3870 per vedere un po’ di immagini esplicative.

La Sapphire HD4870 TOXIC dotata di tale sistema di raffreddamento arriva già con frequenze più elevate rispetto alle soluzioni HD4870 standard, consentendo comunque ulteriori incrementi in caso di overclock.

Al momento non si dispone di informazioni riguardo la commercializzazione e il prezzo, presumibilmente più alto delle HD4870 standard.

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