Intel punta ai 45nm

Contrariamente a quanto si pensava, Intel è già pronta a produrre chip a 45nm.

Il processo costruttivo a 45nm è l’evoluzione del precedente processo a 65nm.

“45 nm” è la dimensione media del gate di ogni singolo transistor.

Per capire bene di che dimensioni stiamo parlando, si consideri che un capello ha uno spessore di 80.000 nm.

I vantaggi del passaggio a questo nuovo processo costruttivo sono moltepilci:

  • si ottiene una maggiore resa produttiva, abbattendo così i costi;
  • diminuisce il consumo di elettricità;
  • è possibile integrare un numero sempre maggiore di transistor e quindi aumentare la potenza di elaborazione.

L’importante è che Intel riesca a evitare il “leackage“, ovvero l’elettro-migrazione dovuta a un isolante poco efficiente. Nella migliore delle ipotesi tale fenomeno provoca un aumento di consumo e di temperatura del processore.

Intel aveva previsto di cominciare la commercializzazione di processori a 45nm nel 2008, ma, evidentemente, tutti i problemi sono già stati risolti.

I primi prodotti a beneficiare della nuova tecnologia saranno gli Xeon che dovrebbero arrivare entro fine anno.

In seguito, sempre con lo stesso processo costruttivo, dovrebbero arrivare anche i successori dei chip per desktop e portatili consumer.

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